石墨烯生长所需的自清洁基底-氧化铜
石墨烯生长所需的自清洁基底-氧化铜【摘要】:利用化学气相沉积法(CVD)在铜基底上进行石墨烯生长之前,铜基底需要预先清洁处理,例如利用有机溶剂丙酮清洗,或是利用硝酸、盐酸、醋酸等酸
【关键词】:石墨烯 化学气相沉积 氧化铜
【分类号】:O613.71
【正文快照】: 石墨烯生长所需的自清洁基底-氧化铜@孔祥华$合肥工业大学化学与化工学院!安徽省合肥市屯溪路193号,230009利用化学气相沉积法(CVD)在铜基底上进行石墨烯生长之前,铜基底需要预先清洁处理,例如利用有机溶剂丙酮清洗,或是利用硝酸、盐酸、醋酸等酸性溶液浸泡,亦或是在氢气还原
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