透明导电掺铝氧化锌薄膜的制备修饰及其自清洁性能研究
透明导电掺铝氧化锌薄膜的制备修饰及其自清洁性能研究【摘要】:掺铝氧化锌(Al-doped ZnO,简称AZO)薄膜是一种具有高透射率和低电阻率的n型半导体透明导电薄膜,广泛应用于各
【学位授予单位】:哈尔滨工业大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2013
【分类号】:TB383.2
【目录】:
- 摘要4-5
- Abstract5-8
- 第1章 绪论8-18
- 1.1 课题背景及研究目的和意义8-9
- 1.2 掺铝氧化锌薄膜的研究现状9-13
- 1.2.1 AZO 薄膜的结构9
- 1.2.2 AZO 薄膜的性质9-10
- 1.2.3 AZO 薄膜的应用10-11
- 1.2.4 AZO 薄膜的制备方法11-13
- 1.3 自洁仿生薄膜的研究现状13-17
- 1.3.1 自洁仿生薄膜概述13-15
- 1.3.2 自洁仿生膜的制备方法15-17
- 1.4 本文主要研究内容17-18
- 第2章 实验材料及研究方法18-24
- 2.1 试验试剂及仪器18-19
- 2.1.1 实验试剂18
- 2.1.2 主要设备18-19
- 2.2 实验流程19
- 2.3 实验方法19-21
- 2.3.1 玻璃的前处理工艺19
- 2.3.2 透明导电 AZO 膜的制备19-21
- 2.3.3 自洁 AZO 膜工艺研究21
- 2.4 AZO 薄膜的测试表征方法21-24
- 2.4.1 相组成分析21-22
- 2.4.2 表面形貌分析22
- 2.4.3 原子力显微镜分析22
- 2.4.4 紫外-可见吸收光谱分析22-23
- 2.4.5 面电阻测试23
- 2.4.6 接触角测试仪23-24
- 第3章 溶胶凝胶法制备 AZO 膜及其性能研究24-41
- 3.1 引言24
- 3.2 制备方法24-27
- 3.2.1 溶胶凝胶法制备透明导电 AZO 膜25-27
- 3.2.2 自洁 AZO 膜的制备27
- 3.3 溶胶凝胶工艺研究27-31
- 3.3.1 拉膜次数对结构和形貌的影响27-29
- 3.3.2 拉膜次数对光电性能的影响29-30
- 3.3.3 膜厚度测试及表面分析30-31
- 3.4 化学刻蚀工艺研究31-40
- 3.4.1 刻蚀浓度的影响32-35
- 3.4.2 刻蚀时间的影响35-40
- 3.5 本章小结40-41
- 第4章 磁控溅射法制备 AZO 膜及其性能研究41-54
- 4.1 引言41
- 4.2 制备方法41-43
- 4.2.1 磁控溅射法制备透明导电 AZO 膜41-43
- 4.2.2 自洁 AZO 膜的制备43
- 4.3 磁控溅射工艺研究43-48
- 4.3.1 溅射功率对结构与形貌的影响43-45
- 4.3.2 溅射功率对光电性能的影响45-46
- 4.3.3 膜厚度测试及表面分析46-48
- 4.4 化学刻蚀工艺研究48-53
- 4.4.1 刻蚀时间的影响48-53
- 4.5 本章小结53-54
- 结论54-55
- 参考文献55-59
- 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果59-61
- 致谢61
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