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中高温太阳能选择性吸收多层膜的制备与光学性能的研究

来源:论文学术网
时间:2024-08-18 17:29:50
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中高温太阳能选择性吸收多层膜的制备与光学性能的研究【摘要】:采用双干涉吸收膜系结构设计在不锈钢基片(SS)和铜基底表面制备了MoSi2-/MoSi0--Al2O3(高体积分数金属填

【摘要】:采用双干涉吸收膜系结构设计在不锈钢基片(SS)和铜基底表面制备了MoSi2-/MoSi0--Al2O3(高体积分数金属填充因子层(HMVF))//MoSi2--Al2O3(低体积分数金属填充因子层(HMVF))/Al2O3选择性吸收多层膜,通过摸索不同的基底、各层厚度匹配,不同体积分数对选择吸收的影响及制备工艺优化获得最佳的太阳能吸收率为0.94,红外发射率为0.08。该膜层经500℃真空退火后吸收率和发射率没有明显变化,表明陔涂层在该温度下热稳定性良好。 【作者单位】: 中国建设银行拉萨北京中路支行;
【关键词】太阳选择性吸收涂层 MoSi--AlO 磁控溅射 真空退火 微观结构 光学性质
【分类号】:TB383.2
【正文快照】: 1薄膜的制备和性能表征方法1·1薄膜的制备方法在本实验中采用磁控溅射方法来制备太阳选择性吸收涂层。1·1·1磁控溅射法制备薄膜的基本理论。物理气相沉积技术中最为基本的两种方法就是蒸发法和溅射法。溅射法具有自己的一些优势,包括在沉积多元合金薄膜时化学成份容易控制

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