制剂设备的清洁验证

【摘要】： 【作者单位】： 中美上海施贵宝制药有限公司!200240
【关键词】： 清洁验证 制剂设备 清洁方法 平均值 螺内酯 操作人员 取样方法 清洁剂 交叉污染 流化床
【分类号】：TQ460
【正文快照】： 1概述清洁是制剂厂GMP的重要环节，但要做到这一点，说起来容易，做起来难。对设备的清洁、清场是防止交叉污染的手段。现在的总趋势是：1．1制剂设备在设计时就要注意到该设备应易于清洗，特别是现在提倡就地清洁（CIP）。拆装清洗部件要易于拆装。1．2设备的清洁应有规定的

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