Al-AlN太阳能选择性吸收涂层的中频溅射工艺研究

【摘要】：探讨了AlN膜和渐变Al-AlN选择性吸收涂层的中频溅射技术,结果表明:增大铝靶电流或减小氩气流量有助于改善AlN反应溅射的工艺稳定性;随着氮气流量的增加,AlN膜的N/Al原子比增大,减小氩气流量或增大铝靶电流对制备满足理想化学计量比的AlN膜有利;AlN膜的致密性随氮气流量和铝靶电流的增大而改善,但氩气流量对AlN致密性没有明显影响;制备的渐变Al-AlN选择性吸收涂层可见光反射率低于6%。光谱选择性较好。 【作者单位】： 中国地质大学(北京)工程技术学院;清华大学核能与新能源技术研究院精细陶瓷北京市重点实验室;
【关键词】： Al-AlN 选择性吸收涂层 中频反应溅射 工艺参数
【基金】：教育部科学技术研究重点项目(108026) 广西科学研究与技术开发计划项目(桂科攻0991009-9) 中央高校基本科研业务费专项资金(2010ZY36) 清华大学实验室开放基金(LF20114493)
【分类号】：TB43
【正文快照】： 0引言选择性吸收涂层可以提高太阳光-热转化装置的集热温度和光-热转化效率,是太阳能热利用的一项关键技术[1]。目前常用的渐变金属-介质选择性吸收涂层的制备方法以直流反应溅射为主[2,3],在镀膜过程中容易出现打火、阳极消失等现象[4],导致镀膜工艺不稳定、膜层质量受影响,

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