TiAlN/SiO_2太阳能选择性吸收薄膜的制备与研究

【摘要】：采用直流磁控溅射法在铜基底上制备了TiAlN/SiO2选择性吸收薄膜。通过调整制备过程中的工艺参数,得到优化后的组合薄膜(铜基底),其吸收率可达0.92、发射率为0.06。在此组合膜系中,TiAlN为吸收层,SiO2为减反层。对基底为铜片的样品在550℃退火2h,其性质保持稳定,表明TiAlN/SiO2组合薄膜在高温太阳能选择性吸收领域具有一定的应用前景。 【作者单位】： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所;
【关键词】： 选择性吸收薄膜 吸收率 发射率 热稳定性
【基金】：国家科技支撑计划(2012BAE02B01) 宁波市自然基金(2009A610008) 宁波市科技创新团队先进涂层与薄膜材料(2011B81001)
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： 太阳辐射能主要集中在可见光和近红外波长范围内(0.3～2.5μm)。对于一个受热物体而言,辐射主要在大于2.5μm的红外区域。如果某种材料对于太阳辐射能中的可见光和近红外波段有高的吸收,而自身受热时向外辐射的能量很小,那么这种材料即具备选择吸收性。通过转换装置把太阳辐

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