常压化学气相沉积法制备氟掺杂TiO_2自清洁薄膜

【摘要】：以四异丙醇钛[Ti(OC3H7)4,TTIP]和三氟乙醇(CF3CH2OH,TFE)为前驱体,采用常压化学气相沉积制备了氟(F)掺杂TiO2自清洁薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见透射光谱等手段对样品进行分析,研究了前驱体TFE的流量与薄膜性能之间的关系。结果表明:前驱体TFE的引入会在TiO2中掺入F并抑制薄膜中锐钛矿相的形成。光催化性能和亲水性能测试表明,沉积F掺杂TiO2薄膜的最佳TFE流量为5.94L/min。 【作者单位】： 浙江大学材料科学与工程学系;杭州蓝星新材料技术有限公司;
【关键词】： 二氧化钛 氟 掺杂 常压化学气相沉积 自清洁
【基金】：国家教育部博士点基金(20050335040)资助项目
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： 近些年,TiO2因其出色的光催化性和亲水性以及化学性质稳定,无毒,价格低廉等优点而在光催化领域显示出巨大的应用前景。目前,TiO2薄膜的制备方法包括:溶胶-凝胶法,[1]磁控溅射法,[2]化学气相沉积,[3]喷雾分解法[4]等。制备的TiO2薄膜光催化活性较低,限制了TiO2的实际应用,[5]

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