热生长二氧化硅击穿电压与1,1,1三氯乙烷克分子浓度的关系
热生长二氧化硅击穿电压与1,1,1三氯乙烷克分子浓度的关系【摘要】:MOS器件栅氧化层,是在有氯源1,1,1三氯乙烷(TCA)的条件下生长的。本文已给出击穿电压(BV)与TCA克分
【正文快照】: —-口 :MOS器件的可靠性,主要取决于Si02的质量。在有氯源(HCl或’TCE)的情况下,热生长的干法二氧化硅有许多优点,例如减少r叮动离子密度,降低了缺陷密度,改善了界面特性和增加丁存贮时间。最近,人们对TCE及它的许多衍生物发生了很大的兴趣j因为TCE及其衍生物具有较小的腐蚀性
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