光伏新材料——掺氮碳薄膜溅射制备技术及测试

【摘要】：介绍了采用氮气离子束溅射 ,高纯石墨为靶材 ,沉积掺氮碳薄膜的设备及工艺技术。对薄膜的沉积过程作了讨论 ,采用 X射线光电子能谱 (XPS)技术等对薄膜结构成分、氮 -碳、碳 -碳原子之间的键以及结合能作了研究 ,在 (1 1 1 )单晶硅片上沉积掺氮碳薄膜 ,构成 C/Si异质结 ,在 1 0 0 m W/cm2 光照下 ,开路电压达 2 0 0 m V。 【作者单位】： 上海交通大学分析测试中心 上海交通大学物理系太阳能研究所 上海交通大学物理系太阳能研究所 上海交通大学物理系太阳能研究所 上海交通大学物理系太阳能研究所
【关键词】： 掺氮碳薄膜 X射线光电子能谱 碳/硅异质结
【分类号】：TM914
【正文快照】： 1　引　　言随着人类社会的不断发展 ,能源显得尤为重要 ,当污染成为不可忽视的灾难时 ,寻找无污染的绿色能源已经迫在眉睫 ,太阳能的利用是个很有价值的研究课题 ,太阳能电池 ,这一绿色能源的开发有十分广阔的应用前景。人们通过努力已成功地制成了单晶硅、多晶硅的太阳电池

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光伏新材料——掺氮碳薄膜溅射制备技术及测试    丁正明,周之斌,崔容强,孙铁囤,贺振宏

    

    

    

    

    

    

    

    

    

溅射沉积光伏材料-掺氮碳薄膜    丁正明;周之斌;崔容强;胡宏勋;孙铁囤;贺振宏;