首页 > 学术论文

空间GaAs太阳能电池用Ge单晶的位错形态及硬度研究

来源:论文学术网
时间:2024-08-18 22:07:33
热度:

空间GaAs太阳能电池用Ge单晶的位错形态及硬度研究【摘要】:GaAs太阳能电池因其光电转换率高,抗空间辐射性能好,温度特性好,寿命长等优点而越来越多的被各国运用到空间供电电源中。

【摘要】:GaAs太阳能电池因其光电转换率高,抗空间辐射性能好,温度特性好,寿命长等优点而越来越多的被各国运用到空间供电电源中。低位错Ge单晶作为单结GaAs/Ge太阳能电池和GaAs/Ge基多结太阳能电池的关键组成材料,其质量的高低直接关系到空间太阳能电池性能的好坏。随着近年来GaAs太阳能电池在空间航天器上的广泛应用,以及近来人们对其在民用上探索研究的不断增加,为进一步提高太阳能电池的转化效率,对衬底Ge片的质量提出更高要求。本论文通过对直拉法(CZ)生长的低位错Ge单晶中的位错形态及相关机械特性进行了详细研究,最终得到了4尺寸低位错Ge单晶,满足了空间高效GaAs太阳能电池对衬底Ge片的要求。 具体内容包括以下几个方面: 1.通过改善热场条件和改进拉晶工艺参数,采用CZ法成功生长出4英寸低位错(位错密度(EPD)3000/cm2) Ge单晶,满足了空间高效GaAs太阳能电池对衬底Ge片的要求; 2.Ge单晶中易出现三种位错形态,分别为位错排、小角晶界、花形结构。通过Raman、SEM、XREDS等测试方法分析发现夹杂是产生花形结构的主要原因,碳夹杂来源于炉体系统,单晶中少量的氧来源于未完全还原的氧化锗或生长气氛中混入的水蒸气。采取有效措施严格控制炉体系统环境,避免碳对单晶的污染,可以有效消除单晶中出现的花形结构位错形态,降低Ge单晶的位错密度,提高单晶的质量; 3.对多炉实验制备出的Ge单晶的纵向位错分布进行统计分析得出,在放肩初始位置(φ8mm)出现的位错大量增殖现象,是由于单晶生长结束后重力因素所致,但是这种位错在单晶整个生长过程中不会发生延伸; 4.首次采用维氏显微硬度法对Ge超薄抛光片进行测试,测试结果表明硬度是存在各向异性的,在相同载荷下, (111)面的硬度要高于(100)面的硬度;相同工艺条件下拉制的低位错Ge单晶(EPD3000/cm2)的硬度要高于相同规格红外Ge单晶(EPD10000/cm2)的硬度。 【关键词】:GaAs太阳能电池 Ge单晶 CZ法 位错 硬度
【学位授予单位】:北京有色金属研究总院
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2010
【分类号】:O782
【目录】:
  • 摘要5-6
  • Abstract6-10
  • 1. 引言10-25
  • 1.1 课题背景10-11
  • 1.2 Ge的性质11-13
  • 1.2.1 Ge的物理性质11
  • 1.2.2 Ge的电学性质11-12
  • 1.2.3 Ge的机械性质12
  • 1.2.4 Ge的光学性质12-13
  • 1.3 Ge单晶的应用13-15
  • 1.4 Ge单晶的生长方法简介15-20
  • 1.4.1 CZ法15-17
  • 1.4.2 VGF法17-20
  • 1.5 国内外Ge的研究现状20-23
  • 1.5.1 国外Ge的研究现状20-21
  • 1.5.2 国内Ge的研究现状21-23
  • 1.6 论文的研究内容和研究意义23-25
  • 1.6.1 论文的研究内容23
  • 1.6.2 论文的研究意义23-25
  • 2. 低位错Ge单晶的制备25-35
  • 2.1 实验设备及工艺参数介绍25-26
  • 2.2 Ge单晶的制备工艺26-28
  • 2.2.1 装炉26
  • 2.2.2 引晶26-27
  • 2.2.3 缩颈27
  • 2.2.4 放肩27
  • 2.2.5 等径27
  • 2.2.6 收尾27-28
  • 2.3 降低位错密度的工艺方法28-34
  • 2.3.1 设计合理的热场28-31
  • 2.3.2 缩颈工艺排除籽晶中位错的延伸31-32
  • 2.3.3 控制合适的固液界面形状32-34
  • 2.4 小结34-35
  • 3. Ge单晶中位错形态的研究35-51
  • 3.1 单晶中存在的缺陷类型35-37
  • 3.1.1 空位团35
  • 3.1.2 位错35-36
  • 3.1.3 夹杂36
  • 3.1.4 空洞36
  • 3.1.5 杂质析出36-37
  • 3.1.6 孪晶37
  • 3.1.7 PN结37
  • 3.2 低位错Ge单晶生长中常见位错形态37-40
  • 3.3 花形结构位错形态的研究40-47
  • 3.3.1 实验40-41
  • 3.3.2 分析与讨论41-47
  • 3.4 Ge单晶纵向位错分布研究47-50
  • 3.4.1 单晶头部位错分布47
  • 3.4.2 单晶尾部位错分布47-48
  • 3.4.3 单晶重量对位错产生的影响48-50
  • 3.5 小结50-51
  • 4. Ge单晶硬度特性的研究51-62
  • 4.1 维氏硬度测试方法51-52
  • 4.2 实验52-53
  • 4.3 结果及讨论53-61
  • 4.3.1 晶向对硬度特性的影响57-59
  • 4.3.2 位错对硬度特性的影响59-61
  • 4.4 小结61-62
  • 结论62-63
  • 参考文献63-67
  • 在学研究成果67-68
  • 致谢68


您可以在本站搜索以下学术论文文献来了解更多相关内容

锗单晶片的碱性腐蚀特性分析    吕菲;刘春香;杨洪星;赵权;于妍;赵秀玲;

Ge单晶抛光片清洗技术研究    杨洪星;李响;刘春香;赵权;

杂质对单晶硅材料硬度的作用    李东升,杨德仁,阙端麟

半导体锗中60°棱位错的电子结构    张国英,刘贵立

单晶硅材料机械性能研究及进展    李东升,杨德仁,阙端麟

LEC技术生长3inch掺Si GaAs单晶的研究    赖占平,齐德格,高瑞良,杜庚娜,刘晏凤,周春锋,高峰

大直径红外光学锗单晶    马绍芳,裴玉兰,冯德伸,解红霞

红外技术在硅基半导体材料微体缺陷测试中的应用    尤政,杨韧,胡庆英,罗维国,陈军

X射线法测量锗单晶的应力    纪红;王超群;王思爱;冯德伸;

金刚石车削单晶锗表面粗糙度的分析    周宏伟;

窄带隙微晶硅锗薄膜及其太阳电池应用研究    张建军;张丽平;尚泽仁;张鑫;胡增鑫;张亚萍;孙建;耿新华;赵颖;

ZnS/PVA纳米复合薄膜的制备及其非线性三光子吸收研究    陈鹤平;毕红;吴卫林;杜乐意;

用广义键合模型分析液固界面的平衡结构    宫晨利,周天健

胭脂红阴离子插层Mg/Al-LDH晶体结构的研究    安志环;陈天虎;彭书传;

半导体材料测试技术的现状    董苏;蔡云凯;

固态再结晶法生长碲镉汞晶体的相变过程    王跃,李全保,韩庆林,宋炳文,介万奇,周尧和

MOCVD外延碲镉汞薄膜的生长工艺选择    王跃,宋炳文,刘朝旺,王静宇,杨玉林,介万奇,周尧和

CdZnTe晶片的红外透过率研究    李国强,华慧,介万奇

CMOS工艺制作的横向多晶硅p~+p~-n~+结的温度特性及其应用    陈二柱,梁平治

弹光晶体频率温度系数对弹光调制系统的影响    马静;王志斌;陈友华;

电流控制LPE生长In_(1-x)Ga_xAs_yP_(1-Y)    曾庆科,曾宪富

单晶和强织构材料宏应力的X光衍射分析方法    白埃民;何崇智;

锌冶炼工艺过程中铟、锗的综合回收    邓孟俐;谢冰;

单晶连铸技术的研究现状与展望    彭立明;邹启明;温宏权;毛协民;徐匡迪;

SrTiO_3铁电体反铁畸变的序参量    许伟钊;蔡玉平;

Kittle型反铁电相变的序参量和自由能    徐绍雄;蔡玉平;

气相生长硒化镉单晶体的生长速度研究    何知宇;赵北君;朱世富;任锐;温才;叶林森;钟雨航;王立苗;杨慧光;

应力双折射对Nd:YAG组合式片状激光振荡器转换效率和光强分布的影响    蒋新颖;袁晓东;徐美健;刘建国;贺少勃;曹丁象;魏晓峰;

卤水-氨法碱式氯化镁晶须的制备及影响因素的研究    王世栋;褚敏雄;孙庆国;

PHEMT器件界面态分析方法    张鹏;黄云;李斌;

太阳能PV自力城市车技术    王成群;王风顺;阚彩云;郑轶涛;钱钧辙;

过渡金属氧化物型热电材料的制备与性能研究    许洁

碱式硫酸镁晶须的合成及表面改性研究    高传慧

PEDOT:PSS薄膜的掺杂改性及其在有机太阳能电池中的应用研究    李蛟

光学超晶格中耦合物理效应的研究    赵军伟

A356合金熔体调控对流动性的影响机理研究    起华荣

真空定向凝固法去除硅中金属杂质和晶体生长控制的研究    梅向阳

从含锗烟尘浸出与萃取锗研究    梁杰

锌基氧(硫)化锌微纳米结构的合成、表征、光电性质及生长机理研究    黄林勇

传导冷却端面泵浦板条放大器热效应研究    刘亮

LED用多晶化合物的微结构调控及物性研究    马淑芳

红壤土壤腐蚀直接、连续监测技术的研究    李新义

Cr~(4+):YAG晶体的生长与缺陷分析    赵晓宏

锗单晶片的表面化学腐蚀研究    张亚萍

硅、锗切割片的损伤层研究    张秀芳

铜和银在锗单晶中的电学行为研究    孙法

两种含联吡啶配体单体的合成及其聚合反应尝试    杜昆鹏

换向器滚压加工过程检测系统研究    石欣

切削过程中工件材料绝热剪切敏感性研究    胡培

镧、钕、铈对4004铝合金变质效果研究    张建交

均相沉淀法制备羟基磷灰石晶须及其台阶生长机理研究    李剑秋

半导体单晶抛光片清洗工艺分析    赵权;

硅片清洗原理与方法综述    刘传军,赵权,刘春香,杨洪星

碘过饱和KOH溶液对硅(110)晶面腐蚀的改善(英文)    景玉鹏,前中一介,藤田孝之,高山洋一郎

含氮CZ硅力学行为研究    石志仪,谢书银,佘思明,李立本,张锦心

硅片高温翘曲与常温机械强度    谢书银,石志仪,陈忠祥,张维连

用三点弯方法研究微氮硅单晶机械强度    王淦,杨德仁,李东升,杨辉,李立本,阙端麟

氮杂质对直拉单晶硅中位错的作用    李东升,杨德仁,朱爱平,黄笑容,王淦,张锦心,李立本,阙端麟

X射线三轴晶衍射法测量半绝缘GaAs单晶的化学配比    黎建明,屠海令,胡广勇,王超群,郑安生,钱嘉裕

硅片的抗弯强度及其测量    谢书银,石志仪

兆声清洗技术分析及应用    李仁

Ge(112)-(4×1)-In表面重构的原子结构    涂修文,盖峥

伪狂犬病病毒gE基因主要抗原表位区的原核表达及其在疫苗接种和自然感染鉴别诊断中的应用    倪健强,张春玲,童光志,仇华吉,王云峰,田志军

ESP视野下的防震减灾专业双语教学实践研究    谢凌江;康红;李洁波;

基于ESP理论的专业英语师资队伍建设研究    魏岚;

金刚石、Si、Ge和α-Sn的声子色散曲线    资剑,张开明

伪狂犬病病毒gD、gE基因的克隆及转移载体的构建    胡涛,崔保安,杨明凡,王学斌,张素梅,王岩

齐鲁分公司GE水煤浆气化装置试车总结    李云峰;

GE在城市土地勘测中的应用    李宏;

Ge衬底上GaInP_2材料的生长研究    李晓婷,汪韬,赛小锋,张志勇

伪狂犬病病毒gE囊膜糖蛋白主要抗原表位区基因的原核表达    柴虹;范忠军;陈义平;王志亮;

牛传染性鼻气管炎病毒gE蛋白单抗的制备及鉴定    于作;朱远茂;高欲燃;董秀梅;吕闯;薛飞;

自觉履行企业社会责任,改善中国职业卫生——“GE项目”案例分析    俞文兰;梁友信;

冷速对液态Ge凝固过程中微观结构的影响    朱长银;谢泉;高廷红;

Ge~(29+)离子激发态的能级结构和精细结构    李玉;王治文;

Ge同位素全球循环中遗失的汇    李雪芳;刘耘;

GE数字胃肠机PⅡ故障维修三例    朱雯;崔晓东;刘君;

Si表面生长Ge量子点的研究进展    刘鹏强;王茺;杨宇;

Sn掺杂N型Si_(80)Ge_(20)热电材料的性能研究    胡淑双;王泽;武伟名;徐桂英;

巧修GE公司产LCV+血管机故障两例    张金山;

重要地质体系Ge和Se同位素的平衡分馏参数    李雪芳;刘耘;

2009年前三季度GE在华绿色创想产品收入6亿美元    周文林

GE可望接手杭锅25%股份    王佑

劳斯莱斯拟状告吉利GE侵权    早报记者 钱婵娟

GE与英特尔联手开发居家医疗    未艾

GE联手机电控股落户重庆两江新区    沈聆

GE能源在中国市场首次推出1.5兆瓦近岸风机    本报记者 杨歌

中航工业联姻GE    记者 陈昌成

GE与哈尔滨电气携手推广新燃机 意欲助力中国清洁能源发展    本报记者 石珊珊

GE与上海广电电气共建第三家合资公司    本报记者 许天瑶

GE:与中航工业里程碑式合作是2009年的重要成就    本报记者 姜春艳 罗杰

Ge反opal三维光子晶体薄膜的制备与光学性能研究    李宇杰

铪基及稀土高k薄膜在Si、Ge及InP上外延生长及性能研究    张心强

基于中学生地理空间素养培育的GE运用策略研究    韩金荣

冬虫夏草原生质体育种及液体富Zn、Se、Ge研究    贾乐

鸭瘟病毒gC基因疫苗在鸭体内分布规律及gC、gE基因缺失株的构建和生物学特性的初步研究    孙昆峰

鸭瘟病毒gE基因功能初步研究    常华

Ge基及Sn基笼合物的制备、结构及热电特性研究    李德聪

企业核心竞争力的形成、度量及评价    谭亮

牛传染性鼻气管炎病毒全基因测序和gE基因缺失株的构建及鉴定    吴文浩

GE公司输配电项目风险管理研究    王健

利用杆状病毒系统表达猪伪狂犬病毒gE蛋白和猪繁殖与呼吸综合征病毒核衣壳N蛋白    华俊清

空间GaAs太阳能电池用Ge单晶的位错形态及硬度研究    李苗苗

Ge(Ⅱ)、Sn(Ⅱ)、Pb(Ⅱ)卡宾化合物的合成研究    杨东明

Ti-X(Ge、Ga)合金的显微组织和生物性能研究    林文娇

GE公司供应商社会责任管理研究    黄袁峰

添加Ge对Zr-Sn-Nb锆合金耐腐蚀性能的影响    谢兴飞

鸭肠炎病毒gC和gE优势抗原表位的筛选    崔立虹

Ge纳米薄膜电输运性质与Si基纳米材料热电性能研究    刘秀敏