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甲烷部分氧化制合成气中还原过程对Ni催化剂性能的影响

来源:论文学术网
时间:2024-08-18 21:33:17
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甲烷部分氧化制合成气中还原过程对Ni催化剂性能的影响【摘要】:正甲烷部分氧化制合成气过程中,催化剂的还原过程是重要的步骤。本文考察还原方式、还原温度对催化剂性能的影响。 1.还原方

【摘要】:正甲烷部分氧化制合成气过程中,催化剂的还原过程是重要的步骤。本文考察还原方式、还原温度对催化剂性能的影响。 1.还原方式对催化剂性能的影响工业上,常用的催化剂还原方式有程序升温还原(TPR)和高温等温还原(HTIR)两种,本文 【作者单位】:中国石油吉林石化公司研究院 天津大学化工学院催化科学与工程系 天津大学化工学院催化科学与工程系
【关键词】:甲烷 部分氧化 Ni催化剂 还原过程
【分类号】:TE665.3
【正文快照】: 甲烷部分氧化制合成气过程中,催化剂的还原过程是重要的步骤。本文考察还原方式、还原温 度对催化剂性能的影响。 1.还原方式对催化剂性能的影响 工业上,常用的催化剂还原方式有程序升温还原(仆R)和高温等温还原(HTIR)两种,本文 催化剂的制备过程同文献111.分析还原谱图发

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