甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响

【摘要】：采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳定性,其程度随甲烷浓度的不同而变化.从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论,认为直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因.实验结果表明,在沉积金刚石厚膜时,为了稳定地获得高质量的厚膜,甲烷浓度不宜过高. 【作者单位】： 南京航空航天大学机电学院
【关键词】： 金刚石厚膜 生长稳定性 甲烷浓度 直流等离子喷射 化学汽相沉积
【基金】：国家自然科学基金 50275076
【分类号】：TB43;
【正文快照】： 金刚石膜的大面积沉积不仅是降低生产成本的 有效措施,而且是在工业领域应用的前提之一在大 面积金刚石膜的制备技术方面,已经形成了以热灯丝 CVD(HFCVD),微波等离子体CVD(MpCVD),直流 电弧等离子体喷射CVD(DC are plasma jet CVD)和 燃烧火焰CVD(Flame CVD)等为代表的一系列

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