太阳能高反射薄膜制备技术对薄膜性能的影响

【摘要】：采用磁过滤阴极真空弧沉积(FCVAD)与磁控溅射(MS)两种技术在玻璃上制备厚度分别为75 nm和165 nm的Glass/Al高反射薄膜,利用Lambda 950分光光度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、附着力测试仪、摩擦试验机和加速老化试验箱分别表征薄膜的反射率、表面形貌、粗糙度、附着力、耐摩擦和耐老化性能,通过薄膜性能评估分析两种技术制备高反射膜性能的差异。结果表明:在双方优化工艺下,FCVAD制备的薄膜表面形貌和附着力优于MS薄膜;FCVAD制备的75 nm和165 nm薄膜反射率比同厚度MS薄膜高出3.3%~4.2%;75 nm厚的薄膜方均根粗糙度明显小于同厚度的MS薄膜;FCVAD制备的75 nm薄膜老化后反射率仅下降1.2%,而MS同厚度薄膜反射率下降了3.3%~4%。说明FCVAD在制备高反射膜方面比磁控溅射更有优势。 【作者单位】： 华南理工大学化学与化工学院;东莞理工学院能源与化工系;
【关键词】： 光学薄膜 物理气相沉积 磁过滤阴极真空弧沉积 磁控溅射 高反射膜
【基金】：广东省教育部产学研结合项目(2012B091100296) 广东省高等学校科技创新重点项目(cxzd1148)
【分类号】：TB383.2
【正文快照】：

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