Ni/Al_2O_3催化剂对高纯HCl中微量CO_2甲烷化反应的催化性能
Ni/Al_2O_3催化剂对高纯HCl中微量CO_2甲烷化反应的催化性能【摘要】:用浸渍法制备了以Al2O3为载体、Ni为活性组分的Ni/Al2O3二氧化碳甲烷化催化剂,在等温固定
【关键词】: 高纯氯化氢 二氧化碳甲烷化 镍/氧化铝催化剂
【分类号】:X701;O643.32
【正文快照】: 引言高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化和外延等工艺的重要材料,也可用于金属冶炼、光导通讯和科学研究等领域[1]。随着大规模集成电路的发展,对氯化氢纯度的要求越来越高,要求用于单晶硅片气相抛光和外延机座腐蚀的电子级氯化氢不仅应具有99.999%以上的纯度[2],而且
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