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Ni/Al_2O_3催化剂对高纯HCl中微量CO_2甲烷化反应的催化性能

来源:论文学术网
时间:2024-08-18 18:43:48
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Ni/Al_2O_3催化剂对高纯HCl中微量CO_2甲烷化反应的催化性能【摘要】:用浸渍法制备了以Al2O3为载体、Ni为活性组分的Ni/Al2O3二氧化碳甲烷化催化剂,在等温固定

【摘要】:用浸渍法制备了以Al2O3为载体、Ni为活性组分的Ni/Al2O3二氧化碳甲烷化催化剂,在等温固定床反应器中研究了在Ni/Al2O3催化剂作用下,高纯氯化氢中微量CO2甲烷化反应效果,并考察了温度、压力、氯化氢体积空速以及H2/CO2摩尔比对CO2转化率的影响,同时研究了催化剂活性、稳定性及其再生性能。结果表明,在温度为250℃、压力为4.0MPa、氯化氢空速为100h-1、H2/CO2摩尔比为500∶1条件下,CO2甲烷化反应效果最好,其转化率可达到90%左右,对于高纯氯化氢中微量CO2的脱除起到很好的效果;催化剂在温度高于300℃时,反应不久后会迅速失活;催化剂再生性能只能部分恢复到新鲜水平。 【作者单位】: 北京化工大学化工资源有效利用国家重点实验室;北京华宇同方化工科技开发有限公司;
【关键词】高纯氯化氢 二氧化碳甲烷化 镍/氧化铝催化剂
【分类号】:X701;O643.32
【正文快照】: 引言高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化和外延等工艺的重要材料,也可用于金属冶炼、光导通讯和科学研究等领域[1]。随着大规模集成电路的发展,对氯化氢纯度的要求越来越高,要求用于单晶硅片气相抛光和外延机座腐蚀的电子级氯化氢不仅应具有99.999%以上的纯度[2],而且

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