甲烷流量对中频磁控溅射制备TiSi-C:H薄膜生长和性能的影响(英文)
甲烷流量对中频磁控溅射制备TiSi-C:H薄膜生长和性能的影响(英文)【摘要】:以甲烷为先驱气体通过中频磁控溅射Ti80Si20靶材在硅和不锈钢基底上制备TiSi-C:H薄膜,研究
【关键词】: a-C H薄膜 中频磁控溅射 力学性能 摩擦性能
【基金】:National Natural Science Foundation of China(51105186) Natural Science Foundation of Gansu Province(1014RJZA007) Excellent Young Teachers Program of Lanzhou University of Technology(1010ZCX010) the Doctoral Research Grant of Lanzhou University of Technology
【分类号】:TB383.2
【正文快照】: Hydrogenated amorphous carbon(a-C:H)films have beeninvestigated for many years due to their outstandingmechanical properties such as high hardness,low friction,high wear resistance and excellent chemical inertness.Thesecharacteristics make a-C:H films go
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